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熱釋光劑量系統(tǒng)測量發(fā)光度的兩種方法

更新時間:2021-08-23      點擊次數(shù):1429
  熱釋光劑量系統(tǒng)是測量熱釋光劑量計發(fā)光量的儀器。設(shè)備主板底部開有錐形熱室,上部固定有防塵蓋;電機(jī)架與過渡板分別固定在主板底部的左右兩側(cè),抽拉板插入電機(jī)架的槽內(nèi),樣品盤放在抽拉板上;兩個深溝球軸承分別固定在防塵蓋和主板的槽內(nèi),大齒輪通過深溝球軸承與主板配合;變壓器安裝在過渡板的底部,水平步進(jìn)電機(jī)安裝在過渡板的后部。
  熱釋光劑量系統(tǒng)的基本工作原理是:經(jīng)輻照后的待測元件由儀器內(nèi)的電熱片或熱氣等加熱,待測元件加熱后所發(fā)出的光,通過光路系統(tǒng)濾光、反射、聚焦后,通過光倍增值管轉(zhuǎn)換成電信號。輸出顯示可用率表指示出發(fā)光峰的高度(峰高法)或以數(shù)字顯示出電荷積分值(光和法),再換算出待測元件所接收到的照射量。
  熱釋光劑量系統(tǒng)測量發(fā)光度的兩種方法:
  1、峰高法:測量發(fā)光曲線中峰的高度。這一方法具有測速快、衰退影響小、本底熒光和熱輻射本底干擾小等優(yōu)點。它的主要缺點是,因為峰的高度是加熱速度的函數(shù),所以加熱速度和加熱過程的重復(fù)性對測量帶來的影響比較大。
  2、光和法:測量發(fā)光曲線下的面積,亦稱面積法。這一方法受升溫速度和加熱過程的重復(fù)性的影響小??梢圆捎幂^高的升溫速度,并可采用測量發(fā)光曲線中一部分面積的方法消除低溫峰及噪聲本底的影響。它的主要缺點是受“假熒光”熱釋光本底及殘余劑量干擾較大。所以在測量中必須選擇合適的“測量”階段和“退火”階段的溫度。合理的選擇各階段持續(xù)時間,以磷光體各個部分的溫度達(dá)到平衡,以利于充分釋放儲存的輻射能量。


熱釋光劑量系統(tǒng)

 

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